PVD鍍膜技術
物理氣相沉積法(Physical Vapor Deposition，PVD)是以不涉及化學反應的物理機制進行薄膜堆積的製程技術。所謂的物理機制是物質的相變化現象，例如蒸鍍(Evaporation)藉由加熱使蒸鍍源從固態轉變為氣態使其沉積在素材上。濺鍍(Sputtering)透過濺鍍槍固態物質轉化為電漿態後沉積於素材上。
我司機台在製程上採用蒸鍍:電子束(E-beam)，透過電子槍發射之電子束轟擊蒸鍍材料，將高能電子束之動能轉化為融化蒸鍍材料的熱能，利用蒸鍍物達到熔點所產生的蒸氣壓來進行素材上的薄膜沉積。此加工法除了擁有良好的熱轉化效率外，在鍍膜品質的監控上也獲得很大的改善，只要透過控制電子槍的電子密度，即可精確調控蒸鍍材料的蒸發速率，使客戶的產品在量產上更能獲得穩定品質的結果。
